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技術(shù)干貨| 關(guān)于電子元器件空間輻射單粒子效應(yīng)的考核

點(diǎn)擊次數(shù):552 更新時(shí)間:2024-01-11

        宇宙遍布著各種高能量的輻射粒子,這些粒子會(huì)對(duì)元器件帶來(lái)影響,如何進(jìn)行抗輻射設(shè)計(jì)成為了工程師針對(duì)邏輯類數(shù)字電路、存儲(chǔ)器以及某些功率器件的一個(gè)必要考量。

        宇宙空間中存在能量高而數(shù)量極低的輻射粒子,這些粒子會(huì)造成瞬態(tài)巨大的電離能量沉積。沉積的能量可以用線性能量沉積LET值來(lái)度量。下面兩個(gè)圖引用了國(guó)際空間站軌道ISS監(jiān)測(cè)到的空間軌道粒子能譜,并計(jì)算獲得了相應(yīng)的LET值。從圖中可以看出,LET值越高的粒子其豐度越低。

        盡管這些大LET值的粒子存在較少,但它們對(duì)半導(dǎo)體元器件的影響極大,尤其是對(duì)邏輯器件和存儲(chǔ)器件。幸運(yùn)的是,高LET值粒子在空間中的分布極少,它們對(duì)器件的影響類似于一個(gè)個(gè)間斷的獨(dú)立事件,不會(huì)持續(xù)發(fā)生甚至出現(xiàn)粒子之間的重疊耦合。因此,我們將這種由高LET值粒子引發(fā)的器件異常行為定義為單粒子事件效應(yīng)(Single Event Effect-SEE)。


來(lái)源;張戰(zhàn)剛,SRAM單粒子效應(yīng)地面加速器模擬試驗(yàn)研究,中國(guó)科學(xué)院大學(xué),博士學(xué)位論文 2013

        高LET值離子穿透器件會(huì)在其入射軌跡上產(chǎn)生強(qiáng)電離效應(yīng)。單位路徑上沉積的能量就是LET值, LET越高,電離產(chǎn)生的電子-空穴越多。如果離子軌跡穿過(guò)了器件的耗盡區(qū)(強(qiáng)電場(chǎng)區(qū)),這些電離產(chǎn)生的電子-空穴在電場(chǎng)作用下發(fā)生遷移,并被器件的高低電位點(diǎn)收集,從而產(chǎn)生脈沖電流。這種脈沖電流存在兩種作用:

        其一,電流攜帶的電荷被收集,從而改變各端電極的電位,從而引起邏輯狀態(tài)翻轉(zhuǎn)(高電位變成低電位/低電位變成高電位)。

        其二,電流脈沖作為電流激勵(lì)會(huì)誘發(fā)某些寄生結(jié)構(gòu)的開啟,如可控硅結(jié)構(gòu),從而誘發(fā)閂鎖(Latch-up)事件,甚至是某些雪崩擊穿或燒毀。

        在工程上,對(duì)于邏輯類數(shù)字電路、存儲(chǔ)器以及某些功率器件,對(duì)單粒子效應(yīng)的考核主要考慮單粒子翻轉(zhuǎn)和單粒子閂鎖。而對(duì)于某些功率器件,還需要考核單粒子燒毀。

圖片示例

試驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)

        國(guó)內(nèi)目前采用QJ 10005-2008《宇航用半導(dǎo)體器件重離子單粒子效應(yīng)試驗(yàn)指南》和GJB 7242-2011《單粒子效應(yīng)試驗(yàn)方法和程序》來(lái)指導(dǎo)航天用器件的單粒子試驗(yàn)。試驗(yàn)程序如下圖所示,包含了試驗(yàn)過(guò)程中對(duì)閂鎖、燒毀和翻轉(zhuǎn)三種現(xiàn)象的監(jiān)測(cè)。同時(shí),還兼顧了用于摸底LET閾值和飽和截面的程序。

試驗(yàn)流程

        不同結(jié)構(gòu)、工藝和功能的半導(dǎo)體元器件,在遭受相同LET值的粒子轟擊時(shí),其發(fā)生單粒子翻轉(zhuǎn)的概率是不同的。這主要是因?yàn)槠骷?duì)單粒子效應(yīng)的敏感程度各不相同。為了描述這種敏感程度,一般采用以下幾個(gè)度量標(biāo)準(zhǔn):

        1、翻轉(zhuǎn)截面:它描述了單位粒子注量下產(chǎn)生翻轉(zhuǎn)的數(shù)量,單位為cm2/device。翻轉(zhuǎn)截面的大小取決于器件的結(jié)構(gòu)和粒子的LET值。換句話說(shuō),相同LET值下,翻轉(zhuǎn)截面越大,說(shuō)明器件對(duì)單粒子翻轉(zhuǎn)的敏感度越高

        2、飽和截面:隨著LET值的增加,器件的翻轉(zhuǎn)截面并不會(huì)一直上升,而是會(huì)達(dá)到一個(gè)平臺(tái),這個(gè)平臺(tái)對(duì)應(yīng)的截面就是飽和截面。

        3、LET閾值:這是定義翻轉(zhuǎn)截面為1%的飽和截面時(shí)對(duì)應(yīng)的LET值。也就是說(shuō),LET閾值就是能最小程度地引起器件翻轉(zhuǎn)的LET值。

        這些度量標(biāo)準(zhǔn)的存在,使工程師們能夠更好地理解半導(dǎo)體元器件對(duì)于單粒子效應(yīng)的敏感程度,從而為器件的設(shè)計(jì)和制造提供參考。

試驗(yàn)源選擇

        為進(jìn)行單粒子試驗(yàn)工程師需要獲得具有較大LET的粒子,一般都要采用能量達(dá)到GeV/nucleon的帶電粒子。這就需要用的加速器,GJB 7242-2011中主要推薦兩種加速器,即串列靜電加速器和回旋加速器。兩者各有特點(diǎn),適用于不同需求場(chǎng)景:

        1、串列靜電加速器,高能粒子容易獲得,可連續(xù)變換粒子種類和能量,適用于翻轉(zhuǎn)截面摸底試驗(yàn),但其對(duì)粒子加速能力有限,故只能獲得能量較低的帶電粒子,這造成其穿透深度有限,故不適用于敏感區(qū)較深的器件,硅中射程一般在幾十微米。

        2、回旋加速器,其加速能力強(qiáng),可獲得較大能量的帶電粒子,穿透深度高,硅中射程在幾百微米,但其不易改變粒子的種類和能量,適用于考核試驗(yàn)。

考核試驗(yàn)時(shí)對(duì)試驗(yàn)源參數(shù)的選擇

        單粒子效應(yīng)較其他輻射效應(yīng)而言,其不確定性更大。因此對(duì)單粒子效應(yīng)的考核需要充分考慮空間實(shí)際情況,來(lái)選擇考核粒子LET值范圍。如下圖所示為GEO(其他軌道幾乎與GEO相同),隨著LET值的增大,粒子強(qiáng)度呈現(xiàn)九級(jí)“瀑布"式分布,且不同分布上,粒子種類也存在差異。


        由圖中可見(jiàn),按照粒子的通量存在兩大板塊,其一為L(zhǎng)ET值在26 MeV cm2/mg以下的區(qū)域,這部分是高能粒子的主力,如果器件在LET閾值小于15-26這個(gè)區(qū)間,意味著器件在空間應(yīng)用時(shí)會(huì)頻繁發(fā)生軟錯(cuò)誤。所以一般工程抗考核時(shí),對(duì)翻轉(zhuǎn)閾值≤ 26 MeV cm2/mg不建議使用。

        另外一個(gè)區(qū)域是達(dá)到105 MeV cm2/mg時(shí),此時(shí)粒子通量極低,可基本忽略。所以對(duì)于器件翻轉(zhuǎn)閾值大于105 MeV cm2/mg時(shí),可認(rèn)為該器件對(duì)單粒子效應(yīng)免疫。

        對(duì)于某些功率器件,其內(nèi)部敏感區(qū)普遍處于較深的位置,粒子必須有足夠的能量穿透到器件,觸發(fā)其可控硅結(jié)構(gòu)方能發(fā)生閂鎖。具有這種能力的粒子,基本上其粒子LET峰值在75 MeV cm2/mg以下。所以當(dāng)器件在75 MeV cm2/mg考核下,不發(fā)生閂鎖,可認(rèn)為對(duì)單粒子鎖定免疫。同時(shí)也不希望在更高通量的粒子下發(fā)生閂鎖,所以建議器件的閂鎖閾值下限要高于37 MeV cm2/mg。

        綜合上述,對(duì)于單粒子翻轉(zhuǎn)的考核,粒子LET考核要考慮低于15-26 MeV cm2/mg,一旦低于15 MeV cm2/mg則為不可用 。而單粒子閂鎖的考核范圍為37-75 MeV cm2/mg。

試驗(yàn)過(guò)程試驗(yàn)結(jié)尾的規(guī)定

        對(duì)單粒子試驗(yàn)的粒子通量(單位時(shí)間,單位面積的粒子數(shù)),注量(單位面積,累積粒子數(shù))和累積錯(cuò)誤數(shù)的規(guī)定主要從以下幾個(gè)方面考量:

        1、對(duì)粒子通量,原則上應(yīng)盡可能接近實(shí)際應(yīng)用,不希望兩個(gè)粒子作用時(shí)間存在交疊,交疊可能產(chǎn)生嚴(yán)重的單粒子現(xiàn)象。同時(shí)要考慮加速器所能給定的z低通量,以及兼顧試驗(yàn)成本(通量越低,試驗(yàn)時(shí)間越長(zhǎng),試驗(yàn)成本越高)。

        2、對(duì)注量的要求,主要是防止總劑量效應(yīng)的發(fā)生,根據(jù)工程經(jīng)驗(yàn),當(dāng)重離子累積注量不超過(guò)107 ions/cm2時(shí),重離子輻射的累積總劑量效應(yīng)可以忽略;

        3、對(duì)累積錯(cuò)誤數(shù)的考慮,單粒子效應(yīng)試驗(yàn)本質(zhì)上是一種統(tǒng)計(jì)試驗(yàn),是以小子樣評(píng)估為基礎(chǔ),實(shí)踐中,盡量獲得更多的錯(cuò)誤數(shù)據(jù),以保證評(píng)估的置信度,標(biāo)準(zhǔn)中要求至少累積100個(gè)錯(cuò)誤。

        4、為保證試驗(yàn)的置信度,盡量累積多的錯(cuò)誤,但同時(shí)不能超過(guò)總劑量效應(yīng)發(fā)生的累積粒子數(shù),所以以記錄到的錯(cuò)誤和達(dá)到的累積粒子數(shù)最先觸及的條件作為試驗(yàn)中止條件。

受試器件的準(zhǔn)備

        在進(jìn)行單粒子試驗(yàn)時(shí),受試器件的處置方法極為重要。首先,工程師必須確保器件的封裝不會(huì)阻礙試驗(yàn)源重離子到達(dá)器件的敏感區(qū),否則將無(wú)法觀察到任何單粒子現(xiàn)象的發(fā)生,從而導(dǎo)致試驗(yàn)失敗。因此,工程師需要參照標(biāo)準(zhǔn)給定能量的Si中射程,在試驗(yàn)前充分評(píng)估并保證粒子能夠到達(dá)敏感區(qū)的方法。

        為了實(shí)現(xiàn)這個(gè)目標(biāo),工程師可以通過(guò)機(jī)械或化學(xué)開封的方式將裸芯片暴露出來(lái)。對(duì)于倒裝器件,應(yīng)采用機(jī)械研磨或切削進(jìn)行襯底減薄。如果使用環(huán)形加速器進(jìn)行試驗(yàn),應(yīng)盡可能保證器件襯底低于100μm。無(wú)論是通過(guò)機(jī)械開封還是襯底減薄的方式,我們都應(yīng)確保器件能夠保持正常的加電和工作狀態(tài)。

        對(duì)于功率器件,如果正面金屬層較厚,工程師應(yīng)采用背面襯底減薄的方式進(jìn)行評(píng)估和考核試驗(yàn)。這樣可以確保試驗(yàn)的準(zhǔn)確性和可靠性,同時(shí)也能有效地保護(hù)器件不受損傷。總的來(lái)說(shuō),對(duì)受試器件的處置是一個(gè)需要綜合考慮多種因素的過(guò)程,旨在保證試驗(yàn)的成功進(jìn)行和結(jié)果的準(zhǔn)確性。

對(duì)測(cè)試系統(tǒng)的要求

        參考GB/T 39343-2020《宇航用處理器器件單粒子試驗(yàn)設(shè)計(jì)與程序》,進(jìn)行單粒子試驗(yàn)的電路板及測(cè)試系統(tǒng)應(yīng)考慮如下:

        1、能夠承載待測(cè)器件,可采用焊接,也可采用Socket裝夾;

        2、能夠施加供電電壓,并可根據(jù)需要改變電壓;

        3、能夠?qū)ζ骷M(jìn)行讀/寫操作,能夠抓取讀寫單元的地址信息,包括物理地址;

        4、上位機(jī)軟件能夠記錄讀操作的數(shù)據(jù),并可與預(yù)期值比較,并根據(jù)錯(cuò)誤的物理地址信息區(qū)分SEU和MBU;

        5、控制回路和待測(cè)器件承載板盡量采取字母板的方式,以避免輻射粒子對(duì)控制回路器件影響,導(dǎo)致試驗(yàn)噪聲;

        6、線纜進(jìn)行必要屏蔽,避免電噪聲;

        7、ECC糾錯(cuò)盡量關(guān)閉,否則單位翻轉(zhuǎn)監(jiān)測(cè)不到,只能監(jiān)測(cè)多位翻轉(zhuǎn);

        8、軟錯(cuò)誤可能對(duì)供電電壓十分敏感,盡量將可能的供電狀態(tài)都進(jìn)行獨(dú)立的試驗(yàn),這是因?yàn)楹芏嘤脩羰株P(guān)注軟錯(cuò)誤率與供電狀態(tài)之間的關(guān)系。

        9、減少死時(shí)間:讀與寫間隔內(nèi),發(fā)生錯(cuò)誤是無(wú)法被監(jiān)控到,會(huì)導(dǎo)致錯(cuò)誤率的低估;

        10、re-rewritten的向量寫補(bǔ)碼;

        11、禁止整體寫、整體讀,如此會(huì)使死時(shí)間增加50%,錯(cuò)誤率低估一倍;

        12、 建議即時(shí)讀寫,即一個(gè)地址進(jìn)行兩個(gè)訪問(wèn)循環(huán),其中一個(gè)訪問(wèn)位讀訪問(wèn),同時(shí)比較錯(cuò)誤和記錄錯(cuò)誤,另一個(gè)訪問(wèn)循環(huán)寫入補(bǔ)碼;

        13、 要進(jìn)行地址碼和存儲(chǔ)數(shù)據(jù)一一核實(shí),會(huì)存在地址譯碼電路翻轉(zhuǎn)造成的錯(cuò)誤寫入。

廣電計(jì)量半導(dǎo)體服務(wù)優(yōu)勢(shì)

        ● 牽頭工信部“面向集成電路、芯片產(chǎn)業(yè)的公共服務(wù)平臺(tái)建設(shè)項(xiàng)目" ,參與工信部“面向制造業(yè)的傳感器等關(guān)鍵元器件創(chuàng)新成果產(chǎn)業(yè)化公共服務(wù)平臺(tái)"等多個(gè)項(xiàng)目;

        ●牽頭建設(shè)江蘇省發(fā)改委“江蘇省第三代半導(dǎo)體器件性能測(cè)試與材料分析工程研究中心"

        ● 在集成電路及SiC領(lǐng)域是技術(shù)能力全面、認(rèn)可度高的第三方檢測(cè)機(jī)構(gòu)之一,已完成MCU、AI芯片、安全芯片等上百個(gè)型號(hào)的芯片驗(yàn)證;并支持完成多款型號(hào)芯片的工程化和量產(chǎn)。

        ● 在車規(guī)領(lǐng)域擁有AEC-Q及AQG324一站式能力,獲得了近50家車廠的認(rèn)可,出具近400份AEC-Q及AQG324報(bào)告,助力100多款車規(guī)元器件量產(chǎn)。

 




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